Những đổi mới công nghệ cốt lõi giúp thiết bị quang phổ phát xạ nguyên tử (OES) Metavision-8i đạt được hiệu suất cao

Những đổi mới giúp Metavision-8i đạt độ chính xác, tốc độ cao và giảm chi phí vận hành (OpEx) được tập trung vào việc áp dụng kiến trúc cao cấp vào một mô hình tiết kiệm chi phí.

I. Đổi mới Công nghệ để Đạt Hiệu suất Cao và Độ chính xác Vượt trội

Metavision-8i cung cấp độ chính xác và độ ổn định vượt trội thông qua các cải tiến sau:

1. Thiết kế Quang học Kép (Dual-Optics)

• Thiết kế độc quyền: Metavision-8i là OES duy nhất trong phân khúc có thiết kế quang học kép được ổn định nhiệt.
• Buồng Quang học Chuyên dụng: Gồm một buồng cho vùng Tử ngoại Sâu (Deep UV) (140–235 nm) và một buồng cho vùng khả kiến (190–620 nm).
• Dải Bước sóng Rộng: Liên tục từ 140–620 nm, phân tích toàn diện hơn 55 nguyên tố, bao gồm nguyên tố vi lượng.

2. Cảm biến CMOS Thế hệ Mới nhất

• Công nghệ Cảm biến: Sử dụng cảm biến CMOS độ phân giải cao thế hệ mới nhất (phiên bản dùng 7 bộ dò CMOS).
• Lợi ích: Độ nhạy cao, tốc độ xử lý nhanh, nhiễu nền gần như bằng 0; độ phân giải đạt 1.6 nm/mm (RLD).

3. Công nghệ Phân tích Cacbon (C) Nâng cao (C@148nm)

• Phân tích Graphit hóa: Đo được bước sóng C148nm để đánh giá và hiệu chỉnh hiện tượng graphit hóa trong CI/DI.
• Thuật toán Phân tích Kép: Dùng C148nm để phân biệt gang trắng/gang xám và chọn thuật toán tối ưu giữa C193nm và C148nm, cho kết quả tương đương máy phân tích đốt.

4. Phân tích Nitơ (N) Tối ưu (N@149nm)

• Giới hạn Phát hiện Thấp: Phân tích N ở mức ppm thấp, giới hạn phát hiện 20 ppm.
• Đường Chuẩn ASTM: Sử dụng đường phát xạ N149nm theo ASTM, đặc biệt chính xác dưới 100 ppm.

5. Nguồn Plasma và Tốc độ

• Nguồn Plasma Kỹ thuật số: PWM hoàn toàn kỹ thuật số, tạo plasma ổn định và kiểm soát chi tiết.
• Tốc độ Phân tích: Tần số phóng tối đa 1,000 Hz, phân tích nhanh, phù hợp sản xuất năng suất cao.

II. Đổi mới Công nghệ để Giảm Chi phí Vận hành (OpEx)

Metavision-8i giảm OpEx nhờ các đổi mới tập trung vào tối ưu hóa hiệu suất và vận hành.

1. Công nghệ SmartSTD (Single-SUS Standardization)

• Rút ngắn Hiệu chuẩn: Standardization dưới 5 phút với 1 mẫu chuẩn duy nhất.
• Tăng hiệu suất – Giảm chi phí: Năng suất tăng khoảng 85%, tiết kiệm chi phí mẫu chuẩn so với phương pháp truyền thống.

2. Cấu hình Quang học Không Cần Chân Không

• Thiết kế không bơm chân không: Giảm chi phí vận hành và bảo trì.
• Giảm thời gian ngừng máy: Không phụ thuộc hệ thống bơm chân không phức tạp.

3. Tiết kiệm Nguồn lực và Độ Bền

• Tiêu thụ Argon thấp: Tối ưu cho chi phí vận hành dài hạn.
• Thiết kế ít bảo trì: Bệ đánh tia bền chắc, giảm downtime.
• Tích hợp Công nghiệp 4.0: Chia sẻ dữ liệu thời gian thực với các nền tảng luyện kim như FRP®.melt và MPALabTab.

Sản phẩm liên quan

Máy Quang phổ Metal Power Metavision-8i

Liên hệ tư vấn và báo giá