Quorum TurboQ S: Máy phủ Sputter chân không cao cho FE-SEM độ phân giải siêu cao

Đặc điểm nổi bật của TurboQ S

Chân không siêu sạch: Hệ thống bơm turbo đạt mức 1 x 10⁻⁶mbar, loại bỏ nhiễu tạp chất.
Tối ưu cho FE-SEM & FIB-SEM: Tạo lớp phủ mỏng, không cấu trúc hạt, lý tưởng cho quan sát nano.
Điều khiển thông minh: Màn hình cảm ứng trực quan với các công thức (recipes) tự động.
Đa dạng vật liệu: Hỗ trợ tốt các kim loại oxy hóa như Chromium (Cr) và Iridium (Ir).

Đặc tính kỹ thuật	Chi tiết sản phẩm TurboQ S
Hệ thống chân không	Bơm phân tử (Turbomolecular pump) 70 L/s nội bộ
Chế độ hoạt động	Sputter Coating
Độ chân không tối đa	Dải 10⁻⁶ mbar
Bia (Target) hỗ trợ	Au, Pt, Cr, Ir, W, Pd, Ag (Ø 57mm)
Bơm hỗ trợ (Backing pump)	Yêu cầu bơm vòng dầu 5m³/hr (như Pfeiffer Duo 6)
Điều khiển	Màn hình cảm ứng màu, lập trình sẵn quy trình
Kích thước (WxDxH)	450 x 500 x 435 mm
Trọng lượng	26 kg (Không bao gồm bơm ngoài)

Nhờ khả năng tạo ra lớp phủ màng mỏng siêu mịn và chân không sạch, TurboQ S được ứng dụng rộng rãi trong các lĩnh vực nghiên cứu chuyên sâu:

Công nghệ Nano: Quan sát và phân tích các cấu trúc nano, hạt nano và màng mỏng mà không làm biến đổi đặc tính bề mặt.
Công nghiệp Bán dẫn: Chuẩn bị mẫu cho quy trình kiểm tra lỗi (failure analysis) trên các tấm wafer và linh kiện vi mạch.
Khoa học Vật liệu: Nghiên cứu bề mặt polymer, gốm sứ và các vật liệu chịu nhiệt kém nhờ chế độ phủ kiểm soát nhiệt độ.
Sinh học (Life Sciences): Phủ mẫu sinh học đã sấy khô tới hạn (Critical Point Dried) để quan sát chi tiết màng tế bào ở độ phân giải cao.
Quy trình FIB: Tạo lớp bảo vệ bề mặt mẫu trước khi thực hiện cắt bằng chùm ion hội tụ (FIB).