Messer

Sản phẩm khí Argon tinh khiết cao 99.9995% (5.5N) thương hiệu Messer là lựa chọn tiêu chuẩn hàng đầu cho các ứng dụng phân tích nghiêm ngặt trong phòng thí nghiệm (PTTN), đặc biệt tương thích hoàn toàn với các hệ thống máy quang phổ phát xạ (OES), ICP-OES, hoặc làm khí bảo vệ trong các thiết bị phân tích nhiệt, kính hiển vi điện tử.Thông số kỹ thuậtĐặc tính kỹ thuậtChi tiếtTên sản phẩmKhí Argon tinh khiết cao (Argon High Purity)Độ tinh khiết99.9995% (5.5N)Thương hiệu/Hãng sản xuấtMesser (Tập đoàn khí công nghiệp uy tín toàn cầu)Dung tích chai10 LítÁp suất nạp140 barVật liệu vỏ chứaChai thép chịu áp suất cao, an toàn theo tiêu chuẩn quốc tếỨng Dụng Tiêu Biểu Trong Phòng Thí NghiệmQuang phổ phát xạ tự do (OES): Làm môi trường khí bảo vệ tối ưu cho buồng đốt (Spark Stand), ngăn ngừa sự can thiệp của oxy và nitơ từ không khí, đảm bảo đường nền ổn định và độ chính xác cực cao khi phân tích hàm lượng nguyên tố trong kim loại/hợp kim.Hệ thống phân tích ICP-MS / ICP-OES: Dùng làm khí duy trì ngọn lửa plasma và khí dẫn mẫu.Khí nền bảo vệ: Sử dụng trong các thiết bị xử lý nhiệt mẫu, lò thiêu kết, hoặc làm sạch hệ thống đường ống phân tích chất lượng cao.

Khí Nitơ tinh khiết cao cấp (độ tinh khiết 99.999% - hay còn gọi là 5.0N) được sản xuất và kiểm soát chất lượng nghiêm ngặt bởi tập đoàn Messer. Sản phẩm được nén áp suất cao (200 bar) trong vỏ chai thép 50 lít chuyên dụng, đáp ứng hoàn hảo các tiêu chuẩn khắt khe nhất trong phân tích phòng thí nghiệm và các ứng dụng công nghiệp công nghệ cao.Thông số kỹ thuậtĐặc tính kỹ thuậtChi tiếtTên sản phẩmKhí Nitơ tinh khiết cao (High Purity Nitrogen)Độ tinh khiết99.999% (5.0N)Thương hiệu/Hãng sản xuấtMesser (Tập đoàn khí công nghiệp uy tín toàn cầu)Dung tích chai50 LítÁp suất nạp200 barVật liệu vỏ chứaChai thép áp suất cao (High-pressure steel cylinder)Ứng dụng chính trong phòng thí nghiệmVới độ tinh khiết 99.999%, loại khí này đáp ứng nghiêm ngặt các yêu cầu phân tích cao cấp:Khí mang (Carrier Gas): Dùng trong hệ thống sắc ký khí (GC, GC-MS).Khí xả/Khí bảo vệ (Purge Gas): Sử dụng cho các thiết bị phân tích quang phổ (ICP-OES, FT-IR) để loại bỏ nhiễu từ không khí môi trường.Tạo môi trường trơ: Bảo quản mẫu, sấy khô mẫu bằng dòng khí, hoặc chạy các phản ứng hóa học nhạy cảm với oxy và hơi ẩm.