Metavision-8i đời mới nhất, với hệ chíp màu CMOS, có tới 2 buồng phân tích, chính xác cao.
Trong lĩnh vực Máy quang phổ phát xạ, các Maker tập trung vào "giới hạn phát hiện ngày càng thấp hơn và thời gian phân tích nhanh hơn cùng với độ chính xác và độ tin cậy cao". Tại Metal Power, chúng tôi có Bộ phận R&D (hơn 35 năm), tập trung vào những điều này và không quên nhu cầu cung cấp "giải pháp kinh tế nhất" trong suốt vòng đời sản phẩm. Metavision-8i là minh chứng cho tất cả những nỗ lực này - Metavision-8i cung cấp khả năng phân tích nhanh chóng, chính xác và độ tin cậy cao cho dải nguyên tố rộng, cả kim loại đen và kim loại màu, đồng thời cũng mang lại nhiều giá trị kinh tế đặc biệt cho kiểm soát chất lượng kim loại/hợp kim, tối ưu chi phí sản xuất, nâng cao uy tín chất lượng sản phẩm cho Doanh nghiệp đúc luyện kim...
Hệ thống quang học tiên tiến
Metavision-8i cải tiến phân tích quang học với hệ thống quang học kép (2 buồng phân tích), được thiết kế để có hiệu suất vượt trội trên dải bước sóng 140-620 nm. Metavision-8i có dải quang học vùng UV (140-220 nm) để phát hiện chính xác các nguyên tố như Carbon, Lưu huỳnh, Phospho, Bo và Nitơ.
Toàn dải phổ của Máy quang phổ Metavision-8i, cung cấp phạm vi phân tích được hơn 50 nguyên tố, với giới hạn phát hiện thấp tới ≤20ppm đối với Carbon và Lưu huỳnh trong Thép và Gang, và 20ppm đối với Nitơ. Ngoài ra, Metavision-8i còn vượt trội trong việc phân tích kim loại màu, đạt độ tinh khiết 99,9+% đối với tất cả các kim loại nguyên chất và vượt quá 99,98% đối với các nguyên tố như Đồng (Cu) và Chì (Pb). Metavision-8i thiết lập các tiêu chuẩn mới về độ chính xác và tính linh hoạt cho nhiều ứng dụng phân tích khác nhau.
Mạnh mẽ trong năng lực kiểm soát chính xác
Nguồn cao áp được điều khiển bằng xung kỹ thuật số, đảm bảo điều khiển chính xác bằng máy tính để tạo ra plasma tối ưu, và đầu ra quang phổ được kiểm soát tốt. Với phạm vi nguồn đầu vào rộng từ 90-270 V AC, nó mang lại sự linh hoạt và độ tin cậy và dễ phổ biến cho mục đích sử dụng máy trên toàn cầu.
Thiết kế dạng module
Metavision-8i được thiết kế theo dạng module, đảm bảo việc bảo dưỡng và bảo trì dễ dàng, với khả năng cô lập hệ thống con được tối ưu hóa để ngăn ngừa nhiễu và tiếng ồn. Điều này giúp các kỹ sư truy cập từng hệ thống một cách độc lập, bảo vệ các thành phần quan trọng trong việc vệ sinh hoặc thay thế vật tư tiêu hao. Thiết kế này giảm thiểu thời gian chết, tăng cường độ tin cậy và giảm chi phí bảo trì.
12 điểm nổi bậc
- Dải phổ rộng từ 140-620nm, phân tích tới hơn 50 nguyên tố (tuỳ cấu hình)
- Phân tích được 10 nền kim loại (Base): Thép, Nhôm, Đồng, Chì, Kẽm, Thiếc, Titan,...
- Buồng phân tích kép (2 buồng phân tích), phủ được "Deep UV Elements - nguyên tố vùng UV sâu"
- Sử dụng 100% chip màu CMOS thế hệ mới nhất, bền bỉ, ổn định
- Phân tích được hàm lượng thang ppm của C, S, P, N trong thép và gang ≤20ppm
- Phân tích được P, Li và Na trong Nhôm
- Buồng phân tích ổn định nhiệt, đảm bảo tính ổn định và chính xác cho phép phân tích
- Bộ nguồn cao áp được điều khiển cả dòng điện, đảm bảo ổn định
- Phần mềm mới nhất, tối ưu xử lý kết quả, lọc nhiễu,... và được nâng cấp liên tục theo
- Thư viện xác định mác giúp phân loại nhanh chóng
- Không sử dụng Bơm chân không, đạt độ ổn định hằng ngày nhanh chóng, và giảm chi phí bảo trì.
- Có thể phục vụ được các nhu cầu ứng dụng đặc biệt cho mẫu nhỏ (2.2mm dia.) và mẫu mỏng (chỉ dày 0.05mm)
(Chúng tôi cấu hình linh hoạt, tập trung vào các điểm then chốt, tối ưu chi phí đầu tư & chi phí bảo trì cho từng khách hàng).
Thông số kỹ thuật
Quang học:
- Hệ thống quang học kép (2 buồng phân tích) với quang học chuyên dụng cho quang phổ vùng UV sâu
- Bước sóng 140-620 nm
- Thiết kế cho chíp CMOS, hoàn toàn sử dụng "chip CMOS độ phân giải cao" thế hệ mới nhất.
- Độ phân tán tuyến tính qua lại (RLD): 1,6 nm/mm
- Quang học ổn định nhiệt để đảm bảo độ bền, độ chính xác và ổn định cao
Nguồn cao áp/Nguồn điện:
- Nguồn kỹ thuật số, điều khiển dòng điện để tạo ra plasma ổn định
- Dòng điện xả cực đại: 100 A
- Tần số xả cực đại: 1000 Hz
- 90-270 VAC; 50/60 Hz