Bà Anne Delobbe là một chuyên gia về công nghệ chùm ion hội tụ, có ảnh hưởng đáng kể đến sự đổi mới tại ORSAY PHYSICS và TESCAN. Với hơn 20 năm kinh nghiệm, bà mang đến sự hiểu biết sâu sắc và tầm nhìn cho các dự án và thiết bị mới. Được truyền cảm hứng từ sự lãnh đạo với tầm nhìn xa của người sáng lập ORSAY PHYSICS là ông Pierre Sudraud, Anne và các cộng sự của bà đã tập trung vào việc áp dụng công nghệ Plasma vào các cột chùm ion hội tụ (PFIB). Công nghệ này đã đạt đến đỉnh cao khi ra mắt TESCAN AMBER X 2, một hệ thống PFIB tiên tiến, đặt ra các tiêu chuẩn mới trong nghiên cứu khoa học vật liệu.
Trước khi theo dõi nội dung cuộc phỏng vấn, hãy dành chút thời gian đăng ký webinar sắp tới của chúng tôi. Đây là một phần của việc ra mắt TESCAN AMBER 2 và AMBER X 2 - hệ thống FIB-SEM tiên tiến nhất của chúng tôi từ trước đến nay. Các chuyên gia sẽ chia sẻ những kiến thức quan trọng về thiết bị mới này. Chi tiết vui lòng truy cập:
Sự kiện ra mắt sản phẩm mới của TESCAN FIB-SEM: AMBER 2 và AMBER X 2
Bài phỏng vấn được thực hiện bởi TESCAN Group với Bà Anne Delobbe.
Kinh nghiệm của bà về công nghệ chùm ion hội tụ đã ảnh hưởng như thế nào đến cách tiếp cận các dự án mới tại ORSAY PHYSICS?
Từ khi thành lập vào năm 1989, ORSAY PHYSICS luôn tiên phong trong việc phát triển công nghệ tiên tiến thông qua các dự án đột phá về nguồn ion và quang học. Tôi may mắn được thừa hưởng tinh thần đổi mới này từ nhà sáng lập Pierre Sudraud. Công nghệ Plasma ứng dụng trong cột chùm ion hội tụ (FIB) cũng không ngoại lệ.
Chúng tôi bắt đầu nghiên cứu lĩnh vực này từ khoảng năm 2011 và là đơn vị đầu tiên trên thế giới giới thiệu hệ thống Dual Beam với nguồn Plasma, trước khi hợp nhất với TESCAN. Công nghệ này đã không ngừng phát triển trong hơn một thập kỷ và chúng tôi cam kết tiếp tục đổi mới để cung cấp các sản phẩm vượt trội, không chỉ trong công nghệ nguồn Plasma. Tôi tin rằng FIB-SEM mới ra mắt của chúng tôi, sẽ là minh chứng rõ ràng nhất cho điều này.
Có lúc nào bà nhận ra rằng Công nghệ Plasma đang phát triển quá nhanh đến mức có khả năng thay thế việc sử dụng Gallium không?
Ngay khi chúng tôi tạo ra những chùm ion đầu tiên từ nguồn Plasma ECR FIB-SEM độc đáo, vượt qua được những thách thức kỹ thuật dự kiến, chúng tôi nhận ra mình đã đạt được một thành tựu quan trọng: Công nghệ Plasma có thể là một bước ngoặt. Hơn nữa, quá trình phát triển các ứng dụng tiến triển rất nhanh nhờ kiến thức chúng tôi thu được khi làm việc với Gallium được chuyển giao sang Plasma. Không chỉ có thể đạt được dòng điện với nguồn Plasma cao hơn đáng kể mà trong phạm vi dòng điện này, Plasma còn cho thấy một số ưu điểm về hiệu suất so với Gallium. Điểm giao nhau này tiếp tục dịch chuyển về phía dòng điện thấp hơn, cho thấy PFIB cuối cùng có thể thay thế Gallium.
Những thách thức chính trong phát triển Công nghệ Plasma trong quá khứ là gì?
Công nghệ Plasma chưa được sử dụng làm nguồn cho FIB cho đến đầu những năm 2000, khi nó bắt đầu xuất hiện cho các ứng dụng FIB. Thách thức kỹ thuật là phát triển một nguồn ion đủ nhỏ gọn để tích hợp vào cột ion. Orsay Physics có chuyên môn để cung cấp một nguồn ECR nhỏ gọn, công suất thấp, đồng thời có lợi thế là không yêu cầu thay thế các bộ phận hao mòn.
Bà có thể mô tả một dự án hoặc thành tựu cụ thể tại ORSAY PHYSICS mà bà đặc biệt tự hào không?
Một trong những khoảnh khắc tự hào nhất của tôi là demo PFIB đầu tiên của chúng tôi cho khách hàng. Ban đầu, nguồn khá lớn và cồng kềnh, chỉ có thể cung cấp 1µA. Bất chấp những hạn chế này, khách hàng đầu tiên của chúng tôi, một công ty bán dẫn lớn, đã tin tưởng chúng tôi phát triển một hệ thống nhỏ gọn và đáng tin cậy trong vòng một năm. Chúng tôi đã thành công, Olivier Salord (quản lý dự án PFIB) và tôi rất tự hào khi lắp đặt hệ thống ở Canada và thấy nó hoạt động hoàn hảo.
Bà thấy xu hướng nào trong phát triển Plasma là hứa hẹn nhất cho tương lai của Công nghệ chùm ion hội tụ?
Các ứng dụng năng lượng thấp đang trở nên ngày càng quan trọng. Ban đầu, chúng tôi ngạc nhiên trước dòng điện cao mà PFIB có thể đạt được là 2 hoặc 3 µA hoặc hơn, thu hẹp khoảng cách giữa Gallium FIB và Công nghệ Laser. Tương lai nằm ở việc cải thiện dòng trung bình và thấp, không chỉ dòng cao, cho phép PFIB vượt qua phạm vi các nhiệm vụ truyền thống được thực hiện với Gallium. Mục tiêu là đáp ứng yêu cầu về năng lượng thấp, dòng trung bình và dòng cao để có một phạm vi hoàn chỉnh.
Bà thấy vai trò của ORSAY PHYSICS phát triển như thế nào trong thập kỷ tới trong ngành công nghiệp chùm ion hội tụ?
Với nhiều ứng dụng tiềm năng cho chùm ion, từ chuẩn bị mẫu đến cấy ion hoặc SIMS, một số thông số quan trọng và cần thiết như: loại ion có thể tiếp cận, năng lượng của chúng và đặc tính nguồn, cũng như hiệu suất của quang học. Chúng tôi hướng tới phát triển các nguồn chùm ion sáng hơn với nhiều loại ion khác nhau, vì các ion khác nhau tương tác theo những cách cụ thể với mẫu. Chúng tôi đã có kinh nghiệm với điều này trên các Hệ thống UHV NanoSpace và QuiiN của mình. Ngoài ra, chúng tôi đang tập trung vào việc cải thiện quang học để giảm quang sai, từ đó giảm kích thước chùm tia. Những hướng đi này - phát triển các nguồn ion mới và cải thiện quang học - là cốt lõi của sự phát triển tương lai của chúng tôi.
TESCAN và ORSAY PHYSICS tạo nên sự khác biệt như thế nào so với các đối thủ cạnh tranh trong Công nghệ chùm ion hội tụ, vốn có tính chuyên môn cao?
Dưới sự lãnh đạo có tầm nhìn của Jaroslav Klima (TESCAN) và Pierre Sudraud (ORSAY PHYSICS), nhóm này đã cung cấp những ví dụ nổi bật về những sản phẩm đầu tiên trên thế giới, chẳng hạn như FIB-SEM hai chùm tia đầu tiên - Ga và Plasma. Việc hợp nhất với TESCAN đã cho phép ORSAY PHYSICS kết hợp chuyên môn của mình trong các cột FIB với chuyên môn của TESCAN trong các cột SEM để cung cấp các công cụ phân tích hàng đầu & tiên phong trong đổi mới. Chúng tôi cũng có uy tín vững chắc trong việc hợp tác với các cá nhân và viện nghiên cứu chủ chốt, cho phép chúng tôi hiểu được yêu cầu của các ứng dụng trong tương lai để đảm bảo chúng tôi vẫn là một tổ chức hàng đầu thế giới.
TESCAN được thành lập vào năm 1991 và đã phát triển từ một công ty khởi nghiệp với 4-5 kỹ sư ban đầu, thành một công ty với hơn 700 nhân viên làm việc tại hơn 10 cơ sở ở 8 quốc gia. Chúng tôi là một công ty hàng đầu trong lĩnh vực thiết bị quang học hạt tích điện, bao gồm Kính hiển vi điện tử quét (SEM), Kính hiển vi điện tử truyền quét (STEM), chùm ion hội tụ (FIB) và Máy chụp cắt lớp Micro-CT động, với hơn 4.000 thiết bị được bán và hoạt động tại hơn 80 quốc gia.
TESCAN GROUP có trụ sở chính tại Brno, Cộng hòa Séc, nơi hầu hết các thiết bị của TESCAN được lắp ráp, thử nghiệm và vận chuyển đến khách hàng trên toàn cầu.
